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網(wǎng)絡(luò)研討會(huì)|SEM/TEM離子束制樣新技術(shù):離子研磨儀,離子精修儀,離子減薄儀

發(fā)布時(shí)間: 2025-10-13  點(diǎn)擊次數(shù): 78次

隨著電子顯微技術(shù)的不斷進(jìn)步,如何高效、精確地制備高質(zhì)量的薄片已成為材料科學(xué)和納米技術(shù)領(lǐng)域的重要議題。作為一種常用的薄片制備方法,聚焦離子束(FIB)技術(shù)雖被廣泛應(yīng)用,但在使用過(guò)程中會(huì)涉及到高能離子及 Ga 的使用,這可能引入不必要的離子注入。為了克服這一局限性,寬離子束(BIB)技術(shù)逐漸受到關(guān)注,并展現(xiàn)出其在降低損傷、提高樣品質(zhì)量方面的優(yōu)勢(shì)。

為了更好地理解和應(yīng)用 BIB 技術(shù),我們誠(chéng)摯邀請(qǐng)您參加本次專(zhuān)題研討會(huì)。

Part.1.會(huì)議詳情

會(huì)議時(shí)間

2025 年 10 月 17 日(周五)10:00-12:00

參與方式

線上參會(huì)

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